波長比 UVA、UVB 還短的深紫外光（Deep Ultraviolet，DUV）在半導體與生醫影像等領域應用廣泛，但控制元件往往造價不斐而侷限應用，陽明交大電子研究所開發出一款超穎透鏡，能成功駕馭深紫外光，解決光電及半導體領域的挑戰。
這款輕薄短小、高效能的深紫外光超穎透鏡（Deep ultraviolet Metalens），厚度僅有 380 奈米，遠小於人類的頭髮，但光學操控卻能達到深紫外光聚焦的極限，這項突破因此獲選為國際期刊《Nano Letters》的封面故事。
超穎透鏡是一種使用奈米結構來操作光的透鏡，這款深紫外光超穎透鏡的秘訣在於首次採用氮化鋁—這種廣泛應用於積體電路中的材料，具有耐高溫、散熱佳、化學穩定性高且不吸收深紫外光的特性。
實驗證實透鏡不僅能作為深紫外光影像攝影裝置拍攝奈米結構，並能完成深紫外光超快雷射雕刻，而這兩項結果都是國際上首次利用超穎透鏡完成的研究成果，展現深紫外光超穎透鏡應用的無限可能。
陽明交大電子研究所助理教授曾銘綸表示，深紫外光相關技術在基礎科學研究及工業場域都有重要應用價值，但相關的裝置相較於一般常見近紅外光或是可見光的裝置昂貴許多，例如應用於精密深紫外雷射加工的鏡頭，造價就要百萬台幣。
曾銘綸指出，超穎介面是由人造奈米結構組成的光學元件，其中包含數以萬計精心設計的半導體奈米天線，透過調控幾何參數，可精確操控光的產生與聚焦，而超穎透鏡則是針對光學應用特別設計的超穎介面，具備與傳統透鏡相似的功能，同時展現更豐富的特性。
曾銘綸強調，超穎透鏡近年已廣泛應用於全彩影像技術、量子光學及生醫檢測等高精度儀器，並有傳言蘋果將在新一代手機引進使用，期望未來能藉由超穎介面輕薄短小、功能多樣性且開發自由度高的特性實現更多關鍵應用，看好由半導體奈米結構組成的超穎介面未來量產與商業化的潛力。
（首圖來源：陽明交大）