中國傳拼出EUV原型機？荷蘭分析師：很謎
[NOWnews今日新聞] 針對路透報導中國打造出可用於先進製程的EUV（極紫外光）原型機，荷蘭媒體專訪荷蘭分析師對此看法，在缺乏蔡司光學的情況下，他認為中國若真能一次做到與艾斯摩爾（ASML）同等層級，令人難以理解「中國怎麼做到」。
《路透》先前報導稱，中國為了突破美國在半導體技術上的限制，疑似延攬前ASML工程師，透過逆向工程試圖拼出可用於先進製程的EUV（極紫外光）原型機，引發市場關注其真實性與對供應鏈的潛在衝擊。
荷蘭媒體《電訊報》（De Telegraaf）近日專訪荷蘭投資與諮詢機構Insinger Gilissen、長期關注半導體設備領域的分析師伏斯蒂格（Jos Versteeg）指出，ASML的EUV系統高度複雜，並非單一企業可獨立完成，尤其核心光學系統仰賴德國蔡司（Carl Zeiss）供應；在缺乏蔡司光學的情況下，中方若真能一次做到同等層級，令人難以理解，「中國怎麼做到」本身仍充滿疑點。
伏斯蒂格也提醒，即便出現「原型機」的說法，距離能穩定量產晶片、形成商業化能力仍有巨大落差。他以ASML自身發展歷程為例，ASML在2001年即做出EUV原型機，但直到2019年才真正走向商用，前後歷經18年；因此即使中國投入大量人力，從原型推進到可量產、可競爭的商業系統，仍可能需要長時間累積。
他進一步指出，EUV量產不只需要人才，還牽涉大量硬體整合與軟體系統支援；若僅靠舊機器零組件「拼裝」，在軟體、授權與系統可靠度等面向都會面臨重大障礙。
伏斯蒂格並認為，中國目前在全球半導體市場的主要份額仍以成熟製程產品為主，即便自行設備能運作，效率與成本也難與ASML的成熟商用機台相比；在ASML從未向中國出售高階EUV設備的前提下，他不認為中國短期內對ASML構成實質威脅，相關設備更可能偏向科研或特定用途。