台積次世代技術大突破 二硫化鉬商機 華鉬獨攬
在國科會計畫支持下，台積電（2330）攜手陽明交大團隊，成功開發出高效能的單層二硫化鉬（MoS2）頂閘極電晶體，掀起全球半導體話題，也讓「鉬」成為焦點。興櫃公司華鉬是台灣唯一的鉬金屬大廠，隨著二硫化鉬可望應用於半導體，華鉬（6990）也將獨攬商機。
談到相關應用，華鉬董事長王大介表示，二硫化鉬能透過化學合成，華鉬隨時都可以配合展開研發測試。
王大介指出，華鉬以生產高純氧化鉬為主，目前純度已達3N（99.9%），後續預計提升至4N（99.99%），並送交國外供應商進行化學與物理驗測，一旦驗測過關，將可全力拓展國際市場，後續並朝5N（99.999%）超高純度目標邁進。
王大介說，目前包括二硫化鉬、二氯二氧化鉬等半導體潛在原料，都仍在探討階段，尚未應用於半導體1奈米以下製程。以華鉬為例，產品以高純氧化鉬為主，未來可透過化學合成，配合研發團隊進行二硫化鉬研發測試，加速產品落地。
業界人士表示，二硫化鉬技術近期受關注，該技術為2D材料的一種，惟2D材料的多元選項存在各種可能，仍視半導體製程因應客戶與AI應用需求發展而定。
設備業者指出，二硫化鉬的技術路徑仍在離開實驗室的後續摸索階段，導入12吋晶圓製程須達成高產能（Throughput）、高良率、低熱預算等多重考驗。不過，半導體微影設備龍頭艾司摩爾（ASML）已2D材料納入微影與整體藍圖，凸顯相關技術已受到國際大廠重視。