從直冷到浸沒，雙相液冷成新主流？其陽研發3年拚AI散熱突破
作者：財訊雙週刊／楊喻斐
輝達新一代Blackwell架構GPU引爆液冷散熱的需求，今年在台北國際電腦展中，液冷散熱已成為未來顯學。根據《財訊》雙週刊報導，其中，直冷式技術（DLC）逐漸站上主流地位，而浸沒式的發展趨勢亦沒有停下來，到底這些技術有甚麼不一樣？單相與雙相的優、缺點又在哪裡？值得深入探討。
隨著輝達GB200機櫃於今年正式出貨，從氣冷轉向液冷的散熱新時代正式開啟序幕。根據國際能源總署（IEA）指出，2026年，資料中心的總用電當中，運算與散熱將各占4成，因此散熱解決方案已成為AI基礎建設的關鍵一環。
從今年的台北國際電腦展中觀察到，液冷散熱的生態鏈日趨完整，並邁向大量生產階段。研究機構集邦科技預估，今年AI晶片的液冷散熱滲透率，將從去年的11%，大幅提升至24%。
散熱已成AI基建關鍵一環
現在台灣供應鏈廠商投入的液冷散熱中，主要是直冷式技術；就是在晶片上面放置水冷板（Cold Plate），再透過裝有水的分歧管將熱能帶走，從冷水變成熱水之後，會跑到裝有風扇的邊車（Sidecar）或者冰水塔進行降溫，再交給冷卻液分配裝置（CDU），依此進行散熱的循環。這種利用液體散熱的循環技術，稱為單相直冷式技術。
但若是冷卻液在散熱時，遇到熱能會汽化為氣體，藉此迅速帶走熱能，再透過冷凝設備，重新變回液體。這種「液對氣」的方式，則稱為雙相直冷式技術，透過氣體和液體的轉換技術，散熱效率更高。
《財訊》雙週刊指出，目前單相直冷式散熱的解熱能力已經達千瓦等級，等同於一顆輝達最高階GPU的功率，並且讓資料中新的電源使用效率（PUE值）降至1.2至1.3附近，符合各國對於資料中心用電效率的規範，是主流技術。
而佳世達集團旗下的其陽，在3年前卻決定跳過單相技術，直接鎖定雙相，包括雙相直冷與雙相浸沒式冷卻技術。佳世達智能方案事業群總經理暨其陽董事長曾文興表示，我們是以「未來產品」為導向，目標高階客製化訂單。
其陽總經理林章安說明，冷卻液一旦與物體表面接觸將迅速地沸騰，同時也會帶走相當大量的熱能，效率更高。以雙相技術進行的解熱能力可以高達1500瓦至2000瓦，效率增加超過5成，而且能將PUE值進一步往下降至1.02。
值得一提的是，其陽推出了全新的雙相直冷式技術，在既有直冷式的架構設計之下，在晶片上放置了micro mesh（微型網）的雙面冷卻板，增加晶片與冷卻液的接觸面積。
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