台積電2奈米技術外洩案！3工程師遭起訴　今移審出庭拚交保

「護國神山」台積電先前傳出二奈米製程技術外洩事件，前工程師陳力銘離職後跳槽至日商東京威力科創（TEL），為爭取二奈米蝕刻機台供應商資格，竟涉嫌遊說清大校友、現職工程師吳秉駿及戈一平，以公司筆電登入內網，再以手機翻拍晶片製程及試產配方等機密資料。而三人也被依涉違反《國家安全法》等罪嫌起訴，全案於今（1）日上午移審至智財商業法院，由法官決定3人是否續行羈押。

據了解，東京威力原為台積電其他製程供應商，企圖切入二奈米站點，但最終測試未能過關。而陳力銘曾擔任台積電12廠之良率部門工程師，離職後至台積電之半導體製造設備供應商東京威力行銷部門任職。

陳力銘熟悉台積電各項機密資訊保護措施，亦深知台積電嚴格要求供應商遵守保密約定，竟為替東京威力公司爭取成為台積電先進製程更多站點設備供應商，多次運用與吳秉駿、戈一平及廖姓同事（廖男未涉域外使用意圖且未據告訴，另予簽結）等台積電在職員工舊誼，央請渠等提供業務上可接觸到之台積電國家核心關鍵技術營業秘密檔案或營業秘密。

檢調指出，陳力銘自2023年8月至2024年5月間，多次約見吳、戈於外部會議室、餐廳及住處，要求攜帶筆電並協助登入系統，自己則以手機翻拍資料，再回報新東家。台積電內部控管發現異常，於今年7月8日提告，高檢署隨後展開搜索與約談，並聲押三人獲准。

檢方認定，陳力銘涉犯《營業秘密法》「意圖域外使用竊取營業秘密」及《國家安全法》「國家核心關鍵技術營業秘密域外使用罪」，求刑14年；吳秉駿涉2罪，求刑9年；戈一平涉1罪，求刑7年。三人均遭台積電開除，已失去工作。

檢方強調，此案涉及我國半導體產業命脈，外洩行為恐嚴重危及國際競爭力，因此已於上週完成起訴，並將三名在押被告移審智慧財產及商業法院，交由法官裁定是否准予交保。

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